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序号
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代码
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股票名称
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说明
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| 1 | SH603650 | 彤程新材 | I线光刻胶、G线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EBR、TFT-LCD用正性光刻胶、AMOLED用正性光刻胶、PTBP增粘树脂、PTOP增粘树脂、改性苯酚-甲醛树脂、非改性苯酚-甲醛树脂、间苯二酚甲醛树脂、均匀剂、硫化树脂、胎面树脂、锌皂盐、线性苯酚-甲醛树脂、烷基苯酚-甲醛树脂、液体苯酚-甲醛树脂、粉体苯酚-甲醛树脂、PBAT |
| 2 | SZ300236 | 上海新阳 | 大马士革铜互连、TSV、Bumping电镀液及配套添加剂、铜制程蚀刻后清洗液、铝制程蚀刻后清洗液、氮化硅/钛蚀刻液、化学机械研磨后清洗液、I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF干法、浸没式光刻胶以及稀释剂、底部抗反射膜、浅槽隔离研磨液、金属钨研磨液、金属铜研磨液、硅氧化层研磨液、多晶硅层研磨液、无铅纯锡电镀液及添加剂、去毛刺溶液、半导体封装引线脚表面处理配套电镀、清洗设备和先进封装制程用电镀、清洗设备、PVDF氟碳粉末涂料、氟碳喷涂涂料、氟碳辊涂涂料、超细耐候粉末涂料、晶圆湿法工艺技术开发与服务、晶圆划片刀、平板显示用光刻材料、磨料 |
| 3 | SZ300346 | 南大光电 | 三甲基镓、三甲基铟、三乙基镓、三甲基铝、二异丙胺硅烷（DIPAS）、双（二乙氨基）硅烷（BDEAS）、四（二甲氨基）钛（TDMAT）、六氯乙硅烷（HCDS）、正硅酸乙酯（TEOS）、三甲硅烷基胺（TSA）、高纯磷烷、高纯砷烷、安全源磷烷、安全源砷烷、安全源三氟化硼、混气产品、三氟化氮、六氟化硫、ArF光刻胶（干式及浸没式）、光刻胶配套稀释剂 |