查询到主营等离子体增强化学气相沉积PECVD设备的有2家A股上市公司
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序号
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代码
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股票名称
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说明
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| 1 | SH688082 | 盛美上海 | 清洗设备、半导体电镀设备、立式炉管系列设备、涂胶显影Track设备、等离子体增强化学气相沉积PECVD设备、无应力抛光设备、后道先进封装工艺设备、硅材料衬底制造工艺设备 |
| 2 | SH688726 | 拉普拉斯 | 硼扩散、磷扩散、氧化及退火设备、低压化学气相沉积（LPCVD）设备、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备、原子层边缘钝化沉积（EPD）设备、电池间隙贴膜机、激光设备 |
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